氧化铋粉末 99.999%纯度 科研用 BiO粉

1、高纯氧化铋(镀膜材料，颗粒状，片状，粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氧化铋CVD,湿法提纯，THM等。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。球磨，造粒， 压片，制粉。热压烧结，真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观，纯度，粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：用于耐火材料、分析试剂、吸附剂、有机反应催化剂、研磨剂、抛光剂、冶炼铝原料、陶瓷材料

氧化钒粉 99.90%纯度 科研用

1、高纯氧化钒(镀膜材料，颗粒状，片状，粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氧化钒CVD,湿法提纯，THM等。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。球磨，造粒， 压片，制粉。热压烧结，真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观，纯度，粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：2-2应用领域：生产及科研应用领域。3、规格3-1 材质：氧化钒V2O53-2 纯度：99.99%，99.999%

铋粉 99.99%纯度 Bi粉末 科研用

1、China New metal（CNM）高纯铋(蒸发料，丝状，片状，颗粒，棒状，块状，粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铋。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。热等静压烧结，真空感应熔炼电子束熔炼，悬浮熔炼等。电解，雾化，羰基，还原，激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造，拉丝，轧板，切割。成品外观，纯度，尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：广泛用于合金

铌靶材 99.95%纯度 科研用 Nb靶材

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯硼靶材 99.99%纯度 Ni靶材

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯锰 Mn靶材 99.90%纯度 科研用

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

氧化铜粉末 99.90%纯度 科研用 CuO粉末

1、高纯氧化铜(镀膜材料，颗粒状，片状，粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氧化铜CVD,湿法提纯，THM等。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。球磨，造粒， 压片，制粉。热压烧结，真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观，纯度，粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：用于人造丝、陶瓷、釉及搪瓷、电池、石油脱硫剂、杀虫剂，也供制氢、催化剂、防邹剂、磨光

氧化铝粉末 99.999%纯度 科研用 Al2O3粉

1、高纯氧化铝(镀膜材料，颗粒状，片状，粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氧化铝CVD,湿法提纯，THM等。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。球磨，造粒， 压片，制粉。热压烧结，真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观，纯度，粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：用于耐火材料、分析试剂、吸附剂、有机反应催化剂、研磨剂、抛光剂、冶炼铝原料、陶瓷材料

钇粒 高纯钇 99.90%纯钇颗粒 科研用

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

氟化钆粉末 99.99%纯度 GdF3粉 科研用

1、高纯氟化钆(镀膜材料，颗粒状，片状，粉末)加工工艺流程原料提 纯检测加工成型热 处 理选用进口或国产高纯氟化钆CVD,湿法提纯，THM等。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。球磨，造粒， 压片，制粉。热压烧结，真空烧结等。分 筛成品检测合格包装出库交付客户超声波振动筛成品外观，纯度，粒度。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：2-2应用领域：生产及科研应用领域。3、规格3-1 材质：氟化钆GdF33-2 纯度：99.99%，99.999%

氧化铒粉末 科研用 99.99%纯度 Er2O3粉

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

氟化铒粉末 科研用 ErF3粉末 99.99%纯度

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯铒 科研用 Er块 99.90%纯度

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯镍 99.995%纯度 科研用 Ni靶材

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯钼靶材 99.99%纯度 科研用 Mo靶材

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

氧化锗粉末 5N高纯度 科研用

1、应用领域机设备2-1适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。2-2应用领域：生产及科学实验研究方面应用，光学，微纳加工，器件等行业产品，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。2、靶材规格3-1 材质：二氧化锗（GeO2 Target）。3-2 纯度：99

氧化镝 4N高纯度 科研用

1、应用领域机设备2-1适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。2-2应用领域：生产及科学实验研究方面应用，光学，微纳加工，器件等行业产品，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。2、靶材规格3-1 材质：氧化镝（Dy2O3 Target）。3-2 纯度：99.

高纯铋 科研用 4N纯度 Bi靶材

1、China New Metal（CNM）高纯铋(蒸发料，丝状，片状，颗粒，棒状，块状，粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铋。碳硫氧氮分析，ICP，XRD，GDMS。热等静压烧结，真空感应熔炼电子束熔炼，悬浮熔炼等。电解，雾化，羰基，还原，激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造，拉丝，轧板，切割。成品外观，纯度，尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向：广泛用于合金

高纯碲 科研用 Te靶材 99.99%纯度

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。

高纯锗 99.9999%纯度 科研专用 Ge靶材

适用设备：适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统，多靶溅射系统，离子溅射系统等磁控溅射设备。应用领域：生产及科研方面应用，光学，微纳加工，器件等行业，广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。