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    • 铋粉 99.99%纯度 Bi粉末 科研用

      铋粉 99.99%纯度 Bi粉末 科研用

      1、China New metal(CNM)高纯铋(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铋。碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:广泛用于合金

      218.99/100g1100g起订

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      2026-09-28 14:50

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    • 硼粉末 高纯度 3N纯度 B粉

      硼粉末 高纯度 3N纯度 B粉

      1、China New Metal(CNM)高纯硼(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯硼碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于冶金、建材

      3198.99/100g1100g起订

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      2026-09-16 09:38

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    • 铁粉末 99.9纯度 高纯铁 科研用 Fe粉

      铁粉末 99.9纯度 高纯铁 科研用 Fe粉

      1、China New metal(CNM)高纯铁(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铁碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于制药、颜料

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    • 碲粉末 4N纯度 Ti粉 科研用

      碲粉末 4N纯度 Ti粉 科研用

      1、China New metal(CNM)高纯碲(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯碲碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于半导体器件

      298.99/100g1100g起订

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    • 铝粉 高纯铝 Al粉末 99.99%纯度 科研用

      铝粉 高纯铝 Al粉末 99.99%纯度 科研用

      1、China New metal(CNM)高纯铝(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铝碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用来冶炼,其质

      839.99/100g1100g起订

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    • 铜粉末 高纯铜 99.90%纯度 科研用 Cu粉

      铜粉末 高纯铜 99.90%纯度 科研用 Cu粉

      1、China New Metal(CNM)高纯铜(蒸发料,丝状,片状,颗粒,棒状,块状,粉体)加工工艺流程原料原料检测熔 炼浇 铸粉体制备选用进口或国产高纯铜碳硫氧氮分析,ICP,XRD,GDMS。热等静压烧结,真空感应熔炼电子束熔炼,悬浮熔炼等。电解,雾化,羰基,还原,激光制粉等。加工成型清 洗成品检测合格包装出库交付客户锻造,拉丝,轧板,切割。成品外观,纯度,尺寸公差。专用包装2、适用方向及应用领域2-1适用方向:用于电气、轻工

      350.00/100g1100g起订

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      2026-09-16 09:38

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    • 氧化镝 4N高纯度 科研用

      氧化镝 4N高纯度 科研用

      1、应用领域机设备2-1适用设备:适用于北方华创、中科科仪、沈阳科仪、中电科、微电子所、南光机器厂、金盛微纳、泰科诺、Kurt J.Lesker 爱发科、丹顿真空等各种单靶溅射系统,多靶溅射系统,离子溅射系统等磁控溅射设备。2-2应用领域:生产及科学实验研究方面应用,光学,微纳加工,器件等行业产品,广泛用于半导体芯片、太阳能光伏 、平面显示、特种涂层等镀膜产品。2、靶材规格3-1 材质:氧化镝(Dy2O3 Target)。3-2 纯度:99.

      5498.99/100g1100g起订

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